TFX4000OCD——光学关键尺寸量测

         光学关键尺寸量测产品基于光学膜厚量测平台，搭载自主研光学关键尺寸量测产品基于光学膜厚量测平台，搭载自主研发算法功能，可应用于显影后检查（ADI）、刻蚀后检查（AEI）等多种工艺段的二维或三维样品的线宽、侧壁角度（SWA）、高度（Height）/深度等关键尺寸（CD）特征或整体形貌测量。

侧壁角度（SWA）、高度（Height）/深度等关键尺寸
（CD）特征或整体形貌测量。